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Official data from INPI

EQUIPAMENTO PARA DOSAR E INJETAR GÁS N2O

Arquivada/ExtintaUtility Model

Application data

Number

MU8101790

Type

Utility Model

Filing

07/06/2001

Publication

06/24/2003

Progress at the INPI

  1. Filing07/06/01
  2. Publication06/24/03
  3. Examination
  4. Allowance11/25/08
  5. Grant03/10/09
  6. Expired05/23/17

The letters patent expired on 05/23/2017: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 05/23/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

L. A. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

L. A. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"EQUIPAMENTO PARA DOSAR E INJETAR GÁS N~ 2~O". O presente objeto, armazena gás N~ 2~O ( óxido nitroso ), em cilindro com válvula (4), este cilindro é envolvido por uma caixa de aço ( 5 ) com tampa superior ( 1 ) e frontal ( 6 ). Está ligado à este cilindro ( 4 ), um regulador de pressão com manômetros ( 2 ) para dosar a quantidade de gás que deverá sair por uma mangueira de teflon com bico de enchimento automático ( 3 ) para injetar gás em um sifão próprio para chantilly já existente no mercado. O gás servirá para expandir o creme de leite do sifão, dando-lhe a forma de chantilly, com maior rendimento e baixo custo, sendo que o manuseio com este equipamento torna-se tudo muito prático e rápido.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

Patente extinta em 06/07/2016

05/23/2017

RPI 2420

22.15

INPI-52400.095610/2014-88@Origem: Juízo da 013ª Vara Federal do Rio de Janeiro @Processo Nº 0101373-17.2014.4.02.5101 @Ação Ordinária de Nulidade da Patente com pedido de Antecipação de Tutela @Autor: WB INDÚSTRIA DE GASES LTDA. EPP @Réu: LUIZ ROBERTO DE ALMEIDA e Instituto Nacional da Propriedade Industrial - INPI.

02/25/2014

RPI 2251

24.5

Referente à despacho 24.3 na RPI 2176 de 18/09/2012.

10/30/2012

RPI 2182

24.3

Referente à 11ª anuidade(s), conforme art.87 da LPI 9.279.

09/18/2012

RPI 2176

Concessão da patente

#16.1

03/10/2009

RPI 1992

Deferimento

#9.1

11/25/2008

RPI 1977

Publicação do pedido de patente

#3.1

06/24/2003

RPI 1694

Pedido de patente depositado

#2.1

11/13/2001

RPI 1610

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