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Official data from INPI

DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM AVENTAL

ArquivadaUtility Model

Application data

Number

MU8101705

Type

Utility Model

Filing

07/12/2001

Publication

06/17/2003

Progress at the INPI

  1. Filing07/12/01
  2. Publication06/17/03
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 07/12/2001 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/28/2006. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

M. C. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

M. C. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM AVENTAL". (1), do tipo utilizado por profissionais da área de bares, restaurantes, lanchonetes, laboratórios, hospitais, e outros equivalentes, constituindo-se em elemento de proteção que não interfere no "design" do referido uniforme (U) padronizado do estabelecimento comercial; referido avental (1) é confeccionado em laminado de polietileno transparente ou translúcido, cuja forma periférica pode variar de acordo com as necessidades e estilos, sendo sua borda (2) livre de qualquer costura ou arremate, e, no qual podem ser aplicado elementos adicionais (3) do tipo ilhóses (4), botões de pressão ou outros passíveis de fixar meios de sustentação (5) e de amarração (6), tais como alças e tiras; referido avental (1) assim constituído permite a visualização completa do uniforme (U) disposto por debaixo do mesmo, permitindo o acesso visual do estilo, "design" e logomarcas (M) que por ventura estiverem gravadas no uniforme (U).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

11/28/2006

RPI 1873

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

08/15/2006

RPI 1858

Publicação do pedido de patente

#3.1

06/17/2003

RPI 1693

Pedido de patente depositado

#2.1

11/13/2001

RPI 1610

Patent monitoring

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