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Official data from INPI

Conjunto de válvulas limitadora de pressão para equipamentos hidráulicos

Arquivada/ExtintaUtility Model

Application data

Number

MU8000817

Type

Utility Model

Filing

04/24/2000

Publication

11/20/2001

Progress at the INPI

  1. Filing04/24/00
  2. Publication11/20/01
  3. Examination
  4. Allowance10/03/06
  5. Grant01/30/07
  6. Expired12/22/15

The letters patent expired on 12/22/2015: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/22/2015. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Metal Técnica Bovenau Ltda

SC, BR

Inventors

C. M. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"CONJUNTO DE VÁLVULAS LIMITADORA DE PRESSÃO PARA EQUIPAMENTOS HIDRÁULICOS". O presente resumo de modelo de utilidade tem por objeto, a um conjunto de válvulas limitadora de pressão, que tem com funcionalidade, reterem e limitarem a pressão máxima de trabalho em equipamentos hidráulicos, mais precisamente os utilizados em macacos, jacarés, prensas e outros, proporcionando uma maior eficiência, precisão e simplicidade construtiva, compreendido por ser substancialmente um corpo (1) que possui cinco cavidades sendo que as cavidades ( 11a, 11b e 11d) formam a 1N e a 2N válvula que tem a finalidade de reter a pressão do óleo bombeado para o dentro do sistema hidráulico (12), as cavidades (11c e 11e) formam a 3N válvula que funciona como uma válvula de segurança e tem a função de regular e desviar o óleo hidráulico quando esta pressão for igual ou superior a de trabalho do equipamento.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

Patente extinta em 24/04/2015

12/22/2015

RPI 2346

Concessão da patente

#16.1

01/30/2007

RPI 1882

Deferimento

#9.1

10/03/2006

RPI 1865

Publicação do pedido de patente

#3.1

11/20/2001

RPI 1611

Pedido de patente depositado

#2.1

11/28/2000

RPI 1560

Patent monitoring

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