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Official data from INPI

BANHEIRA DE HIDROMASSAGEM COM ASSENTOS

Arquivada/ExtintaUtility Model

Application data

Number

MU8000735

Type

Utility Model

Filing

04/28/2000

Publication

11/27/2001

Progress at the INPI

  1. Filing04/28/00
  2. Publication11/27/01
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 12/13/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

D. Y. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

D. Y. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"BANHEIRA DE HIDROMASSAGEM COM ASSENTOS". Dita banheira de hidromassagem (13) apresentando superficialmente e próximo à sua extremidade posterior um setor rebaixado basicamente na forma de meia-lua (1), definindo um assento externo moldado integralmente à estrutura da banheira (13), sendo que um encosto dorsal previsto no extremo anterior da cavidade da banheira permite a adaptação de um assento removível (3) com perfil basicamente na forma de um "L", cuja extensão maior define a parte de assento propriamente dito (4) e a extensão menor constitui-se do elemento de apoio (5) no fundo da banheira e um encosto dorsal previsto na lateral da cavidade da banheira, definido por uma entrância côncava (8), permite a adaptação de um segundo assento removível (9), com perfil basicamente na forma de um "L", cuja extensão maior determina a parte de assento propriamente dito (10) e a extensão menor constitui-se do elemento de apoio (11) no fundo da banheira.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1913 de 04/09/2007.

12/13/2011

RPI 2136

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 5º6º e 7º Anuidades]

09/04/2007

RPI 1913

Publicação do pedido de patente

#3.1

11/27/2001

RPI 1612

Pedido de patente depositado

#2.1

11/28/2000

RPI 1560

Patent monitoring

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