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Official data from INPI

VÁLVULA DE DISPARO PARA DISPERSÃO DE GÁS LIQUEFEITO

ArquivadaUtility Model

Application data

Number

MU7602212

Type

Utility Model

Filing

11/04/1996

Publication

08/18/1998

Progress at the INPI

  1. Filing11/04/96
  2. Publication08/18/98
  3. Examination
  4. Allowance10/17/00
  5. Abandoned
  6. In force

The application was allowed on 10/17/2000 but abandoned for failure to pay the grant fee (art. 38 of the Brazilian IP Act). The letters patent were never issued.

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Latest action published by the INPI: 11/13/2001. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

A. A. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

A. A. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

Patente de modelo de utilidade de "VÁLVULA DE DISPARO PARA DISPERSÃO DE GÁS LIQUEFEITO", compreendida por uma cápsula de corpo (1) constituído a partir de um niple principal (2), o qual no extremo superior incorpora um colarinho com furação interna (3) e rosca externa (4), enquanto o extremo inferior, projeta um colarinho principal (30) cuja furação interna permite o agente de um sprinkler (5), revestido por uma camisa cilíndrica(6), esta fixada no colarinho principal (30), por meio de parafuso transversal (7), e projeta seu externo inferior fechado (8), enquanto transversalmente, detém janela de dispersão (9), formada por uma fenda que colide com o bulho (10) do dito sprinklers (5), e opostamente a janela de dispersão (9), verifica-se um acionador (11), este formado por dois dispositivos eletrôpirotécnicos, cujos cabos de alimentação elétrica (12) são ligados oportunamente numa central eletrônica, sendo que no disto niple (2) observa-se um manometro (40).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI

#11.4

Arquivamento - Art. 38 § 2º da LPI

11/13/2001

RPI 1610

Deferimento

#9.1

10/17/2000

RPI 1554

Publicação do pedido de patente

#3.1

08/18/1998

RPI 1443

Pedido de patente depositado

#2.1

04/22/1997

RPI 1377

Patent monitoring

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