Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
11/26/1996
RPI 1356
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Official data from INPI
DISPOSITIVO PARA LACRAR VÁLVULA DE BOTIJÃO A GÁS
ArquivadaUtility Model
Progress at the INPI
- Filing01/21/93
- Publication08/09/94
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 01/21/1993 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 11/26/1996. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
A. T. (pessoa física)
RS, BR
Inventors
A. T. (pessoa física)
BR
Technical data
IPC Classification
Abstract
Patente de Modelo de Utilidade: "Dispositivo para lacrar válvula de botijão a gás". Patente de modelo de utilidade de um "Dispositivo para lacrar válvula de botijão a gás destinado a lacrar as válvulas dos botijões a gás evitando violação, sendo que é constituído de uma tampa de segurança (1) interligada a um pino de fixação (2) através de um cordão (3). A tampa de segurança (1) tem o formato cilíndrico aberto, possuindo um fundo raso onde se encontra uma abertura (4) para ser fixado o pino (2). O pino de fixação (2) possui uma cabeça saliente e pontiaguda, permitindo a penetração com facilidade na abertura (4), porém sem possibilidade de retorno devido a referida saliência, salvo no caso de rompimento para uso do gás.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Publicação do pedido de patente
#3.1
08/09/1994
RPI 1236
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