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Official data from INPI

DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM VÁLVULA PARA CONDUTOS PARA MINERAÇÃO

ArquivadaUtility Model

Application data

Number

MU7200487

Type

Utility Model

Filing

03/30/1992

Publication

10/05/1993

Progress at the INPI

  1. Filing03/30/92
  2. Publication10/05/93
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/30/1992 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/05/1996. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

M. P. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

M. P. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM VÁLVULA PARA CONDUTOS PARA MINERAÇÃO", compreendida por um mecanismo de aperto blindado (10), provido em seu extremo superior de um volante (1) de operação manual, atuando sobre mordentes horizontais (2,4) deslocáveis ao longo de um par de guias verticais (3), sendo que entre ditos mordentes (2,4) e guias (3) é transpassado um tubo flexível (20) elasticamente deformável pela ação dos mordentes horizontais (2,4), sendo que a base de assentamento (8) do volante (1) apresenta um formato tronco-piramidal vazado por setores transversais (8a); estando o mecanismo de aperto (10) provido internamente de um fuso longitudinal (5) atuante em uma luva (6) internamente roscada, assentada e guiada por buchas de apoio (6a), sendo dita luva deslizante (6) deslocável axialmente em relação à uma camisa tubular externa e blindada (7) do mecanismo (10), sendo que no extremo inferior da luva (6) fixa-se o mordente horizontal superior (2).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

11/05/1996

RPI 1353

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/05/1993

RPI 1192

Pedido de patente depositado

#2.1

05/05/1992

RPI 1118

Patent monitoring

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