Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
08/22/1995
RPI 1290
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 04/10/1991 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 08/22/1995. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
T. D. (pessoa física)
RS, BR
Inventors
T. D. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
O modelo de utilidade refere-se a um porta-retrato executado em material laminar e flexível, cujo distanciador do suporte é parte integrante da base, sendo curvado contra o suporte e unido a este por um entalhe recortado na própria extremidade livre do distanciador. O porta-retrato compreende uma base (1) e um suporte de sustentação (4), sendo a base (1) dotada de um distanciador (2), cuja extremidade livre possui um entalhe lateral (3) e um chanfro (9) no lado oposto. O suporte (4) possui um rasgo central interno (5) onde é introduzido a extremidade livre do distanciador (2). O suporte (4) é retido no distanciador (2) por meio de um entalhe (3) que aprisiona a espessura do dito suporte (4).
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1
08/22/1995
RPI 1290
#3.1
11/24/1992
RPI 1147
#2.1
11/19/1991
RPI 1094
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