Application data
Number
202015003436Type
Filing
Publication
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/05/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
S. A. (pessoa física)
SP, BR
Inventors
S. A. (pessoa física)
BR
Abstract
MÁSCARA DE LIMPEZA FACIAL. A Presente Patente de Modelo de Utilidade se refere a uma máscara para auxiliar na remoção de comedões, eliminando os detritos celulares que os envolvem dificultando sua remoção. Assim como remover o excesso de oleosidade, dispensando o uso de vapor, protegendo a pele de possível dilatação dos poros causado pelo vapor, pois o objetivo é remover os comedões sem alterar a anatomia dos poros. Sua composição é a seguinte: álcool ceto-estearílico com alquil sulfato de sódio 8%, óleo de girassol 2%, óxido de zinco 10%, talco 8%, caulim 8%, óleo de gérmen de trigo 2%, alantoína 0,2%, extrato de babosa 1,2%, lauril sulfato de sódio 0,8%, vitamina E 0,8%, EDTA 0,05%, BHT 0,05%, óleo essencial de tomilho 1,5%, glicerina 5% e água q.s.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2458 de 14-02-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
06/05/2018
RPI 2474
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
02/14/2018
RPI 2458
#3.1
02/14/2017
RPI 2406
#2.1
09/22/2015
RPI 2333
#2.5
06/02/2015
RPI 2317
#2.6
ANULADA A PUBLICAÇÃO 2.1 DA RPI 2315 POR TER SIDO INDEVIDA
05/26/2015
RPI 2316
#2.1
05/19/2015
RPI 2315
#2.10
Número de Protocolo 860150025094 em 15/02/2015 12:35(WB).
02/24/2015
RPI 2303
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