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Official data from INPI

APARELHO DE PRÉ-TRATAMENTO PARA ANÁLISE ONLINE DE GÁS DE PROCESSO DE MÚLTIPLOS PERCURSOS DE FLUXO

Em AnáliseInvention PatentPCT · CN2024083336

Application data

Number

112025011356

Type

Invention Patent

Filing

03/22/2024

Publication

06/23/2026

PCT

CN2024083336

Progress at the INPI

Examination not yet requested
  1. Filing03/22/24
  2. Publication
  3. Examination
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

Examination has not been requested yet. Without that request by 03/22/2027, the application is definitively abandoned (art. 33 of the Brazilian IP Act).

Deadline to request examination:03/22/2027(209 days left)

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Latest action published by the INPI: 06/23/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

HANGZHOU EMUST TECHNOLOGY CO., LTD.

CN

Inventors

A. L. (pessoa física)

CN

H. Y. (pessoa física)

CN

T. Z. (pessoa física)

CN

Technical data

Priority claims

CN

202323261238.3 · 11/29/2023

Abstract

É fornecido um aparelho de pré-tratamento para análise online de gás de processo de múltiplos percursos de fluxo. Uma válvula de três vias de duas posições pode comutar a direção do fluxo de gás e comutar entre a comunicação entre o tubo de exaustão de gás principal e o percurso de admissão de gás, e a comunicação entre o percurso principal de importação do gás de amostra de teste e o percurso de admissão de gás. Uma válvula de comutação de múltiplos canais comuta entre as comunicações entre os diferentes percursos de admissão de gás e o percurso principal de importação do gás de amostra de teste de acordo com diferentes requisitos. Uma válvula redutora de pressão primária ajusta a pressão do gás de amostra de teste e despressuriza um gás cuja pressão é maior que um valor predefinido. Um filtro de impurezas remove impurezas mecânicas do gás em teste. Uma válvula redutora de pressão secundária realiza a regulação da pressão secundária no gás despressurizado pela válvula redutora de pressão primária. Um filtro de três vias remove impurezas mecânicas, vapor d?água e hidrocarbonetos de petróleo do gás em teste, impedindo a entrada de impurezas em dispositivos ou elementos chave. De acordo com a presente divulgação, a oportunidade dos dados de monitoramento é efetivamente melhorada, os erros gerados durante a amostragem manual, o transporte e a análise são reduzidos, os dados de análise são oportunos e confiáveis, o custo de análise do gás de processo é reduzido e a eficiência é melhorada.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

06/23/2026

RPI 2894

Alteração de dados cadastrais

#1.1

09/09/2025

RPI 2853

Patent monitoring

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