Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
10/07/2025
RPI 2857
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Official data from INPI
COMPOSIÇÃO CURÁVEL POR RADIAÇÃO AQUOSA, COMPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO, PROCESSO PARA A FABRICAÇÃO DE UMA COMPOSIÇÃO CURÁVEL POR RADIAÇÃO AQUOSA, E, USO DE UMA COMPOSIÇÃO CURÁVEL POR RADIAÇÃO AQUOSA OU UMA COMPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO
Em AnáliseInvention PatentPCT · EP2023079466
Application data
Number
112025006673Type
Invention Patent
Filing
10/23/2023
Publication
10/07/2025
PCT
EP2023079466 Progress at the INPI
Examination not yet requested- Filing10/23/23
- Publication
- Examination
- Allowance
- Grant
- In force
Examination has not been requested yet. Without that request by 10/23/2026, the application is definitively abandoned (art. 33 of the Brazilian IP Act).
Deadline to request examination:10/23/2026(59 days left)
Latest action published by the INPI: 10/07/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
ALLNEX BELGIUM, S.A.
BE
Inventors
E. S. (pessoa física)
BE
M. T. (pessoa física)
BE
Technical data
Priority claims
EP
22206644.1 · 11/10/2022
Abstract
COMPOSIÇÃO CURÁVEL POR RADIAÇÃO AQUOSA, COMPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO, PROCESSO PARA A FABRICAÇÃO DE UMA COMPOSIÇÃO CURÁVEL POR RADIAÇÃO AQUOSA, E, USO DE UMA COMPOSIÇÃO CURÁVEL POR RADIAÇÃO AQUOSA OU UMA COMPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO. Uma composição curável por radiação aquosa obtida ao: a) misturar pelo menos um composto etilenicamente insaturado (A) com pelo menos um emulsificante externo iônico reativo (B), em que o emulsificante externo iônico reativo (B) é representado pela fórmula geral (I): D-O-(R1O)n-X (I), em que: D é uma fração compreendendo um grupo etilenicamente insaturado (E); R1 é um grupo alquileno C2-C6 linear ou ramificado; X é uma fração iônica; e n está em uma faixa de 4 a 50, obtendo, assim, uma pré-mistura; e b) adicionar água à pré-mistura até que ocorra uma inversão de fase.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Alteração de dados cadastrais
#1.1
04/15/2025
RPI 2832
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