Invention Patent USO DE GÁS RICO EM CO2 COMO UM GÁS DE VARREDURA EM UMA INSTALAÇÃO QUÍMICA de TOPSOE A/S — IPC C01B 3/34. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.
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Latest action published by the INPI: 08/26/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.
USO DE GÁS RICO EM CO2 COMO UM GÁS DE VARREDURA EM UMA INSTALAÇÃO QUÍMICA. A presente invenção refere-se a uma instalação, por exemplo, uma instalação de gás de síntese ou uma instalação de hidrogênio, ou uma instalação combinada de gás de síntese e hidrogênio. A instalação compreende uma seção de reforma, uma seção de remoção de CO2 e uma primeira unidade de eletrólise. Uma primeira porção de uma primeira corrente rica em CO2 produzida a partir da seção de remoção de CO2 é disposta para ser suprida para o anodo da primeira unidade de eletrólise como um gás de varredura para gás produto oxigênio. Certas correntes, a jusante da primeira unidade de eletrólise, são dispostas para serem alimentadas para a seção de reforma como pelo menos uma porção de uma alimentação rica em oxigênio. Vários processos também são providos para a produção de hidrogênio e/ou gás de síntese na instalação.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
