MÉTODO E DISPOSITIVO PARA MONITORAR E CONTROLAR O DESEMPENHO DE UMA FONTE DE ÍONS

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Abstract

MÉTODO E DISPOSITIVO PARA MONITORAR E CONTROLAR O DESEMPENHO DE UMA FONTE DE ÍONS. A invenção se refere a um método e a um aparelho para monitorar e controlar o desempenho de uma fonte de íons, compreendendo: (a) ionizar de forma assistida por laser uma amostra de controle, cuja composição é substancialmente conhecida, e que é amostrada antes, paralelamente ou depois de uma amostra analítica, (b) gerar dados de amostra de controle espectral da amostra de controle ionizada em um analisador de íons conectado à fonte de íons, (c) repetir as etapas (a) e (b) em uma infinidade de amostras de controle para coletar uma infinidade de dados de amostra de controle espectral e avaliá-los de modo que os dados espectrais de amostras de controle individuais tenham baixo peso e uma tendência de desempenho apareça na avaliação, (d) ajustar um parâmetro operacional do laser da fonte de íons se a tendência de desempenho entrar em uma faixa fora de um intervalo de desempenho predefinido, para colocar o laser em conformidade com o intervalo, e (e) repetir as etapas (a) a (d) para monitoramento e controle contínuos da fonte de íons.