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Official data from INPI

MÉTODO APERFEIÇOADO PARA PROCESSAR PLÁSTICOS RESIDUAIS LIQUEFEITOS

Em ExigênciaInvention PatentPCT · FI2023050428

Application data

Number

112025000507

Type

Invention Patent

Filing

07/04/2023

Publication

06/10/2025

PCT

FI2023050428

Progress at the INPI

Technical opinion to answer
  1. Filing07/04/23
  2. Publication06/10/25
  3. Examination
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

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Applicants and inventors

Applicants

N. O. (pessoa física)

FI

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Inventors

A. P. (pessoa física)

FI

I. K. (pessoa física)

FI

M. W. (pessoa física)

FI

V. P. (pessoa física)

FI

Technical data

Priority claims

EP

22184301.4 · 07/12/2022

FI

20225658 · 07/12/2022

Abstract

MÉTODO APERFEIÇOADO PARA PROCESSAR PLÁSTICOS RESIDUAIS LIQUEFEITOS. A invenção se refere a um método aperfeiçoado para processar plásticos residuais liquefeitos. O método compreende fornecer uma matéria-prima de plástico residual liquefeito (LWP) para tratamento térmico (processamento HT) com uma solução aquosa contendo uma substância básica, submeter a matéria-prima de LWP ao tratamento térmico com a solução aquosa, seguido por separação de fases para resultar em pelo menos um material de LWP tratado e uma fase aquosa, determinar a qualidade da matéria-prima de LWP medindo pelo menos uma propriedade da matéria-prima de LWP, a pelo menos uma propriedade incluindo pelo menos o número de acidez total (TAN) da matéria-prima de LWP, e calcular uma quantidade da substância básica que precisa ser adicionada no processamento HT para atingir um nível de pH alvo da fase aquosa com base na pelo menos uma propriedade da matéria- prima de LWP e na proporção água-óleo, e adicionar a quantidade calculada de substância básica na forma de solução aquosa a estar em contato com a matéria-prima de LWP.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Parecer de pré-exame

#6.23

04/14/2026

RPI 2884

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

06/10/2025

RPI 2840

Alteração de dados cadastrais

#1.1

02/04/2025

RPI 2822

Patent monitoring

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