Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
06/30/2026
RPI 2895
Application data
Number
112024026261Type
Filing
Publication
PCT
EP2023066287 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 06/16/2023 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/30/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
G. A. (pessoa física)
DK
Inventors
L. J. (pessoa física)
DK
S. F. (pessoa física)
DK
T. L. (pessoa física)
DK
IPC Classification
Priority claims
EP
22179612.1 · 06/17/2022
Abstract
SISTEMA DE DISTRIBUIÇÃO DE GÁS OTIMIZADO. É fornecido um sistema de distribuição de gás (100), um sistema de válvula e um método para otimização do uso de gás residual em um sistema de distribuição de gás. O sistema de distribuição de gás (100) compreendendo; um primeiro (5) e um segundo (6) recipientes de gás para suprimento de gás; uma válvula de pelo menos três vias (11) em comunicação fluida com o primeiro e o segundo recipientes de gás (5, 6), a válvula (11) sendo operável para alterar de posição entre uma primeira posição de válvula, em que o gás é suprido a partir do primeiro recipiente (5) e uma segunda posição de válvula, em que o gás é suprido a partir do segundo recipiente (6), um dispositivo sensor (31) adaptado para medir uma primeira propriedade sensoriada a partir do primeiro recipiente de gás, uma unidade de controle (32) configurada para receber a primeira propriedade sensoriada a partir do dispositivo sensor (31), e sendo adaptada para alterar a posição da referida válvula (11) da primeira posição de válvula para a segunda posição de válvula com base na referida primeira propriedade sensoriada; em que a unidade de controle (32) é adaptada para manter a válvula (11) na segunda posição de válvula por um período de tempo de revaporização, o referido período de revaporização sendo predefinido e/ou baseado em uma segunda propriedade sensoriada a partir do dispositivo sensor (31), em que a unidade de controle (32) é adicionalmente adaptada para alterar a posição da válvula (11) de volta para a primeira posição de válvula após o período de revaporização.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1
06/30/2026
RPI 2895
#1.3
05/27/2025
RPI 2838
#1.1
02/04/2025
RPI 2822
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