Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
11/18/2025
RPI 2863
Application data
Number
112024000392Type
Filing
Publication
PCT
CN2022115158 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 08/26/2022 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 11/18/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
ANSTEEL GROUP MINING CORPORATION LIMITED
CN
Inventors
C. G. (pessoa física)
CN
H. Z. (pessoa física)
CN
J. L. (pessoa física)
CN
L. X. (pessoa física)
CN
P. G. (pessoa física)
CN
Q. C. (pessoa física)
CN
S. L. (pessoa física)
CN
S. L. (pessoa física)
CN
W. L. (pessoa física)
CN
X. P. (pessoa física)
CN
X. M. (pessoa física)
CN
X. Y. (pessoa física)
CN
Y. F. (pessoa física)
CN
Y. L. (pessoa física)
CN
Y. Y. (pessoa física)
CN
Z. D. (pessoa física)
CN
IPC Classification
Priority claims
CN
202210987691.3 · 08/17/2022
Abstract
MÉTODO PARA EXTRAÇÃO EFICIENTE E DE BAIXO CARBONO DE SIO2 DE ALTA PUREZA A PARTIR DE REFUGOS DE HEMATITA DE ALTO TEOR DE SILÍCIO.A presente invenção se refere a um método para extração eficiente e de baixo teor de carbono de SiO2 de alta pureza a partir de refugos de hematita de alto teor de silício: preparação de uma polpa (concentração de 20-80 kg/m3), adição de um dispersante, seguido por dispersão ultrassônica por 1-4 minutos sob a condição de uma energia ultrassônica de 70-200 W para as partículas de quartzo e impurezas na polpa serem efetivamente dispersas; separação magnética de alto gradiente de supercondução fraca/forte da polpa; resfriamento rápido com água após ustulação do pulverizado de quartzo refinado grosso obtido da separação magnética (700-900°C por 4-6 horas), de modo que ocorram rachaduras na superfície de quartzo e íons de impureza sejam expostos para a superfície; lixiviação ácida do pulverizado de quartzo refinado?grosso, obtido através de rápido resfriamento com água, duas vezes para purificação fina, e obtenção de SiO2 de alta pureza com o teor de massa de SiO2 maior ou igual a 99% após a lixiviação ácida. São superados os defeitos incluindo defeitos técnicos tais como processo tecnológico complexo, poluição ambiental, e alto custo de operação na preparação de SiO2 de alta pureza, e alcança alto valor de utilização e reciclagem de componentes úteis em refugos de hematita de alto teor de silício. O SiO2 de alta pureza preparado pode aliviar efetivamente a deficiência de fontes minerais de quartzo de alto teor de sílica na China.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
11/18/2025
RPI 2863
#11.1
09/02/2025
RPI 2852
#1.3
04/02/2024
RPI 2778
#1.1
03/19/2024
RPI 2776
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