MÉTODO PARA VEDAR UM SUBSTRATO, SUBSTRATO VEDADO, USO DE UM CONSTITUINTE DE ORGANOSSILANO, COMPOSIÇÃO VEDANTE, SISTEMA DE VEDAÇÃO BICOMPONENTE, E, CONSTITUINTE DE ORGANOSSILANO

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Abstract

MÉTODO PARA VEDAR UM SUBSTRATO, SUBSTRATO VEDADO, USO DE UM CONSTITUINTE DE ORGANOSSILANO, COMPOSIÇÃO VEDANTE, SISTEMA DE VEDAÇÃO BICOMPONENTE, E, CONSTITUINTE DE ORGANOSSILANO.A presente invenção refere-se a um método para vedar um substrato compreendendo opcionalmente uma etapa (1) de aplicar uma composição de revestimento básico, e necessariamente compreendendo uma etapa (2) de aplicar uma composição vedante, que pode ser obtida pela mistura dos componentes (A) e (B ) de um sistema de vedação 2K entre si, compreendendo em (A) grupos tiol contendo o constituinte polimérico (a1) e em (B) um constituinte (b), que é adequado para endurecer a composição vedante induzindo pelo menos parcialmente uma transformação química dos grupos tiol do constituinte (a1), em que um constituinte organossilano que compreende ao menos um grupo hidrolisável X, pelo menos um grupo NCO e uma unidade espaçadora compreendendo uma porção MS compreendendo, por sua vez, ao menos um átomo de enxofre e sendo posicionado entre X e o grupo NCO, está ao menos presente - quando a etapa (1) não é executada - como constituinte (a2) na composição vedante aplicada na etapa (2) ou está - quando a etapa (1) é executada ? ao menos presente como um constituinte na composição de revestimento básico aplicada na etapa (1), um substrato vedado que pode ser obtido por este método, um uso do dito constituinte de organossilano para melhorar a adesão, a composição vedante usada na etapa (2), o sistema de vedação 2K como tal, e o constituinte de organossilano propriamente dito.