SISTEMA PARA TRATAR UNHAS, DISPOSITIVO PARA TRATAR UNHAS POR EMISSÃO DE PULSOS DE LUZ DE UM TAL SISTEMA, MÉTODO PARA PREPARAR UMA UNHA PARA SER SUBMETIDA A UM TRATAMENTO POR EMISSÃO DE PULSOS DE LUZ POR MEIO DE UM TAL SISTEMA, KIT DE PREPARAÇÃO DE UNHAS, NOTAVELMENTE PARA A IMPLEMENTAÇÃO DESTE MÉTODO, CONJUNTO DE EMPLASTROS A SEREM POSICIONADOS EM UNHAS A SEREM TRATADAS USANDO UM DISPOSITIVO DE EMISSÃO DE PULSO DE LUZ DE UM TAL SISTEMA, SUPORTE E ENCAIXE DE EXTREMIDADE DESTINADOS A PERMITIR O TRATAMENTO DE UNHAS POR UMA CABEÇA ÓPTICA DE UM DISPOSITIVO DE TRATAMENTO DE EMISSÃO DE PULSO DE LUZ DE UM TAL SISTEMA

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Abstract

SISTEMA PARA TRATAR UNHAS, DISPOSITIVO PARA TRATAR UNHAS POR EMISSÃO DE PULSOS DE LUZ DE UM TAL SISTEMA, MÉTODO PARA PREPARAR UMA UNHA PARA SER SUBMETIDA A UMTRATAMENTO POR EMISSÃO DE PULSOS DE LUZ POR MEIO DE UM TAL SISTEMA, KIT DE PREPARAÇÃO DE UNHAS, NOTAVELMENTE PARA A IMPLEMENTAÇÃO DESTE MÉTODO, CONJUNTO DEEMPLASTROS A SEREM POSICIONADOS EM UNHAS A SEREM TRATADAS USANDO UM DISPOSITIVO DE EMISSÃO DE PULSO DE LUZ DE UM TAL SISTEMA, SUPORTE E ENCAIXE DE EXTREMIDADE DESTINADOS A PERMITIR O TRATAMENTO DE UNHAS POR UMA CABEÇA ÓPTICA DE UM DISPOSITIVO DE TRATAMENTO DE EMISSÃO DE PULSO DE LUZ DE UM TAL SISTEMA. Um sistema para tratar unhas, compreendendo: - um dispositivo de emissão de luz de pulso (1) que torna possível expor pelo menos uma unha a ser tratada a pelo menos um pulso de luz, ainda melhor a uma rajada de pulsos de luz, - pelo menos um revestimento (16) a ser aplicado à unha ou unhas, absorvendo a luz emitida pelo dispositivo, ou um aplicador de um tal revestimento, notavelmente de refletividade inferior a 50% e/ou transmissividade inferior a 50%, e cuja temperatura de superfície pode exceder 60 °C, e mais preferencialmente 200 °C, sob o efeito da luz emitida pelo dispositivo.