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Official data from INPI

ESTRUTURA SEMICONDUTORA E MÉTODO PARA FORMAR UMA ESTRUTURA SEMICONDUTORA INCLUINDO CONTATOS ENVOLVENTES

ConcedidaInvention PatentPCT · CN2021124804

Application data

Number

112023010283

Type

Invention Patent

Filing

10/20/2021

Publication

06/27/2023

PCT

CN2021124804

Progress at the INPI

  1. Filing10/20/21
  2. Publication06/27/23
  3. Examination
  4. Allowance04/07/26
  5. Grant05/05/26
  6. In force10/20/41

The patent was granted on 05/05/2026 and is in force until 10/20/2041. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:10/20/2041

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Latest action published by the INPI: 05/05/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

I. C. (pessoa física)

US

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Inventors

A. G. (pessoa física)

US

E. M. (pessoa física)

US

J. F. (pessoa física)

US

Y. M. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

17/124,458 · 12/16/2020

Abstract

ESTRUTURA SEMICONDUTORA E MÉTODO PARA FORMAR UMA ESTRUTURA SEMICONDUTORA INCLUINDO CONTATOS ENVOLVENTES. Um revestimento metálico depositado conformemente usado para formar estruturas de contato envolventes discretas está localizado entre pares de estruturas de portão e abaixo dos topos das estruturas de portão. O padrão de máscara de bloco é empregado para proteger os transistores sobre as regiões ativas de um substrato enquanto as porções do revestimento metálico entre as regiões ativas são removidas. Uma técnica de chanfradura é empregada para remover seletivamente outras porções do revestimento metálico dentro das regiões ativas. Revestimentos de silicieto metálico formados nas regiões de fonte/dreno usando o revestimento metálico depositado de forma conformada são eletricamente conectados ao metal de contato de fonte/dreno após a deposição e padronização de uma camada dielétrica e subsequente metalização.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 20/10/2021, observadas as condições legais

05/05/2026

RPI 2887

Deferimento

#9.1

04/07/2026

RPI 2883

Parecer de pré-exame

#6.23

10/14/2025

RPI 2858

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

#1.3.1

Retificado o item (54)

07/25/2023

RPI 2742

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

06/27/2023

RPI 2738

Alteração de dados cadastrais

#1.1

06/06/2023

RPI 2735

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