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Official data from INPI

REFLETOR SECUNDÁRIO

ArquivadaInvention PatentPCT · CN2021112871

Application data

Number

112023002892

Type

Invention Patent

Filing

08/16/2021

Publication

05/02/2023

PCT

CN2021112871

Progress at the INPI

  1. Filing08/16/21
  2. Publication05/02/23
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 08/16/2021 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/12/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

F. H. (pessoa física)

CN

Inventors

F. H. (pessoa física)

CN

Technical data

IPC Classification

Priority claims

CN

202010822032.5 · 08/15/2020

CN

202010918259.X · 09/04/2020

CN

202011476018.0 · 12/15/2020

Abstract

REFLETOR SECUNDÁRIO. Um refletor secundário composto por dois refletores e uma moldura de fixação, que utiliza o princípio de que um objeto distante é imaginado nos olhos em uma forma triangular que a imagem de um objeto diminui gradualmente de uma faixa mais ampla para uma faixa mais estreita. De acordo com a mudança de largura de uma gama de luzes da imagem do objeto em um plano de objeto observado em pontos de reflexão, os refletores com tamanhos apropriados são arranjados no ponto de reflexão. Uma linha de visão é perpendicular a uma direção da parte superior do corpo; o segundo refletor (2) está localizado diretamente na frente dos olhos na direção da linha de visão; os refletores são fixados por uma moldura que não está apoiada no corpo. Para o refletor secundário, os ângulos e posições dos refletores são ajustáveis, e um ângulo incluído de referência entre o refletor (1) e o refletor (2) é definido em 45 graus.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

11/12/2024

RPI 2810

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

08/27/2024

RPI 2799

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

05/02/2023

RPI 2730

Alteração de dados cadastrais

#1.1

02/28/2023

RPI 2721

Patent monitoring

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