Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
11/12/2024
RPI 2810
Application data
Number
112023002892Type
Filing
Publication
PCT
CN2021112871 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 08/16/2021 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
F. H. (pessoa física)
CN
Inventors
F. H. (pessoa física)
CN
IPC Classification
Priority claims
CN
202010822032.5 · 08/15/2020
CN
202010918259.X · 09/04/2020
CN
202011476018.0 · 12/15/2020
Abstract
REFLETOR SECUNDÁRIO. Um refletor secundário composto por dois refletores e uma moldura de fixação, que utiliza o princípio de que um objeto distante é imaginado nos olhos em uma forma triangular que a imagem de um objeto diminui gradualmente de uma faixa mais ampla para uma faixa mais estreita. De acordo com a mudança de largura de uma gama de luzes da imagem do objeto em um plano de objeto observado em pontos de reflexão, os refletores com tamanhos apropriados são arranjados no ponto de reflexão. Uma linha de visão é perpendicular a uma direção da parte superior do corpo; o segundo refletor (2) está localizado diretamente na frente dos olhos na direção da linha de visão; os refletores são fixados por uma moldura que não está apoiada no corpo. Para o refletor secundário, os ângulos e posições dos refletores são ajustáveis, e um ângulo incluído de referência entre o refletor (1) e o refletor (2) é definido em 45 graus.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
11/12/2024
RPI 2810
#11.1
08/27/2024
RPI 2799
#1.3
05/02/2023
RPI 2730
#1.1
02/28/2023
RPI 2721
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