Petição de recurso
#12.2
Recurso: Petição 870260045230, de 13/05/2026
05/26/2026
RPI 2890
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Application data
Number
112023002739Type
Invention Patent
Filing
09/15/2020
Publication
03/21/2023
PCT
IB2020058565 Progress at the INPI
Under appeal- Filing09/15/20
- Publication03/21/23
- Examination
- Allowance
- Grant
- In force
The application is under appeal: the INPI has yet to review the decision.
Latest action published by the INPI: 05/26/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
ARCELORMITTAL
LU
Inventors
D. S. (pessoa física)
FR
E. I. (pessoa física)
FR
J. D. (pessoa física)
FR
Technical data
Abstract
DISPOSITIVO.O dispositivo para injetar um gás redutor em um forno de cuba compreendendo um invólucro externo cuja face frontal é provida de uma saída para injeção de gás no forno de cuba, um invólucro interno localizado dentro do invólucro externo onde circula o gás redutor. O invólucro interno possui uma abertura correspondente à saída de injeção de gás da face frontal do invólucro externo. A face frontal do invólucro externo compreende uma parte superior e uma parte inferior e a saída de injeção de gás está na parte inferior e para dentro da parte superior.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Indeferimento
#9.2
03/17/2026
RPI 2880
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
09/02/2025
RPI 2852
Parecer de pré-exame
#6.23
11/12/2024
RPI 2810
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
03/21/2023
RPI 2724
Alteração de dados cadastrais
#1.1
02/28/2023
RPI 2721
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