Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
08/18/2026
RPI 2902
Application data
Number
112022013552Type
Filing
Publication
PCT
US2021013295 The INPI issued a technical office action on this application. If it is not answered in time, the application is abandoned (art. 36 of the Brazilian IP Act).
Deadline to answer the office action:11/16/2026(83 days left)
Latest action published by the INPI: 08/18/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
TAE TECHNOLOGIES, INC.
US
Inventors
H. G. (pessoa física)
US
T. T. (pessoa física)
US
Priority claims
US
62/960,585 · 01/13/2020
Abstract
SISTEMA E MÉTODOS PARA FORMAÇÃO E MANUTENÇÃO DE PLASMA FRC DE ALTA ENERGIA E TEMPERATURA POR MEIO DE FUSÃO DE ESFEROMA E INJEÇÃO DE FEIXE NEUTRO. Um sistema de configuração reversa de campo (FRC) de alto desempenho inclui uma câmara de confinamento central, duas câmaras desviadoras acopladas à câmara e dois injetores de esferoma diametralmente opostos acoplados às câmaras desviadoras. Um sistema magnético inclui bobinas quase-dc posicionadas axialmente ao longo dos componentes do sistema de FRC.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#6.1
08/18/2026
RPI 2902
#6.23
02/24/2026
RPI 2877
#1.3
09/06/2022
RPI 2696
#1.1
07/19/2022
RPI 2689
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