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Official data from INPI

COMPOSTOS DE HETEROARILA DE ANEL FUNDIDO COMO INIBIDORES DE RIPK1

ArquivadaInvention PatentPCT · KR2020010513

Application data

Number

112022001922

Type

Invention Patent

Filing

08/09/2020

Publication

05/03/2022

PCT

KR2020010513

Progress at the INPI

  1. Filing08/09/20
  2. Publication05/03/22
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 06/16/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

BISICHEM CO., LTD.

KR

Inventors

C. Y. (pessoa física)

KR

C. H. (pessoa física)

KR

J. S. (pessoa física)

KR

J. B. (pessoa física)

KR

M. K. (pessoa física)

KR

N. K. (pessoa física)

KR

Technical data

Priority claims

US

62/884,797 · 08/09/2019

Abstract

COMPOSTOS DE HETEROARILA DE ANEL FUNDIDO COMO INIBIDORES DE RIPK1. A invenção fornece novos compostos heterocíclicos substituídos representados pela Fórmula I, ou um sal, solvato, polimorfo, éster, tautômero ou pró-fármaco farmaceuticamente aceitável dos mesmos, e uma composição compreendendo esses compostos. Os compostos fornecidos podem ser usados como inibidores de RIPK1 e os métodos terapêuticos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

06/16/2026

RPI 2893

Parecer de pré-exame

#6.23

02/18/2026

RPI 2876

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

05/03/2022

RPI 2678

Alteração de dados cadastrais

#1.1

02/08/2022

RPI 2666

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