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Official data from INPI

DISPOSITIVO PARA FORNECIMENTO DE UMA COMPOSIÇÃO A UM SISTEMA DE DEPOSIÇÃO PRESSURIZADO

Em ExigênciaInvention PatentPCT · US2020014088

Application data

Number

112021014710

Type

Invention Patent

Filing

01/17/2020

Publication

09/28/2021

PCT

US2020014088

Progress at the INPI

Office action pending
  1. Filing01/17/20
  2. Publication09/28/21
  3. Examination
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The INPI issued a technical office action on this application. If it is not answered in time, the application is abandoned (art. 36 of the Brazilian IP Act).

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Latest action published by the INPI: 08/25/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

CHENANGO ONE LLC

US

CHENANGO TWO LLC

US

CHENANGO ZERO LLC

US

CURRAHEE HOLDING COMPANY INC.

US

JOHNSON & JOHNSON CONSUMER INC.

US

KENVUE BRANDS LLC.

US

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Inventors

C. B. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

62/798,745 · 01/30/2019

Abstract

DISPOSITIVO PARA FORNECIMENTO DE UMA COMPOSIÇÃO A UM SISTEMA DE DEPOSIÇÃO PRESSURIZADO. A presente invenção se refere a um dispositivo para dispensação de uma composição fluida de uso tópico que inclui um reservatório (102) que armazena a composição e dispensa um fluxo pressurizado da composição. O dispositivo inclui também um acumulador (108) que tem uma câmara expansível (109) em comunicação fluida com o reservatório (102). A câmara (109) é propendida para uma configuração desinflada de modo que, quando preenchida com a composição, a câmara (109) se expande contra essa configuração aplicando pressão à composição armazenada na mesma. O dispositivo inclui uma válvula de suprimento (104) que regula o fluxo da composição do reservatório (102) para o acumulador (108), e um sensor de pressão (106). O dispositivo inclui adicionalmente uma disposição de processamento (112) que analisa dados do sensor (106) para determinar se a pressão no acumulador está acima de um limite pré-determinado e controlar a válvula de suprimento (104) para manter a pressão dentro de uma faixa de pressão desejada. O dispositivo inclui também uma disposição de deposição (110) que dispensa a composição do acumulador sob o controle da disposição de processamento (112).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

08/25/2026

RPI 2903

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

02/24/2026

RPI 2877

Alteração de nome deferida

#25.4

10/21/2025

RPI 2859

Alteração de sede deferida

#25.7

10/07/2025

RPI 2857

Parecer de pré-exame

#6.23

05/13/2025

RPI 2836

Alteração de sede deferida

#25.7

06/25/2024

RPI 2790

Alteração de nome deferida

#25.4

06/18/2024

RPI 2789

Transferência deferida

#25.1

06/04/2024

RPI 2787

Alteração de nome deferida

#25.4

10/11/2022

RPI 2701

Transferência deferida

#25.1

09/27/2022

RPI 2699

Transferência deferida

#25.1

09/13/2022

RPI 2697

Transferência deferida

#25.1

08/30/2022

RPI 2695

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

09/28/2021

RPI 2647

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/03/2021

RPI 2639

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