Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 12/02/2020, observadas as condições legais
04/14/2026
RPI 2884
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Official data from INPI
GRAVAÇÃO EM RELEVO OU GRAVAÇÃO EM DEPRESSÃO DE SUBSTRATO DE RÓTULO
ConcedidaInvention PatentPCT · US2020017869
Application data
Number
112021013384Type
Invention Patent
Filing
02/12/2020
Publication
09/14/2021
PCT
US2020017869 Progress at the INPI
- Filing02/12/20
- Publication09/14/21
- Examination
- Allowance03/31/26
- Grant04/14/26
- In force02/12/40
The patent was granted on 04/14/2026 and is in force until 02/12/2040. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:02/12/2040
Latest action published by the INPI: 04/14/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
M. C. (pessoa física)
US
Inventors
B. M. (pessoa física)
US
C. S. (pessoa física)
US
C. B. (pessoa física)
US
Technical data
Priority claims
US
62/804,333 · 02/12/2019
Abstract
GRAVAÇÃO EM RELEVO OU GRAVAÇÃO EM DEPRESSÃO DE SUBSTRATO DE RÓTULO. Um rótulo como mostrado e descrito na presente invenção. O rótulo pode incluir um substrato de rótulo, um adesivo adjacente ao substrato e um revestimento adjacente ao adesivo, de modo que adesivo seja disposto entre o substrato de rótulo e o revestimento e em que o substrato de rótulo é gravado em relevo ou gravado em depressão e o revestimento não é gravado em relevo ou gravado em depressão.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Deferimento
#9.1
03/31/2026
RPI 2882
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
12/02/2025
RPI 2865
Parecer de pré-exame
#6.23
05/13/2025
RPI 2836
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
09/14/2021
RPI 2645
Alteração de dados cadastrais
#1.1
07/13/2021
RPI 2636
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