Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
02/18/2025
RPI 2824
Application data
Number
112021006990Type
Filing
Publication
PCT
CL2019050097 The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
THOR SPA
CL
Inventors
P. B. (pessoa física)
CL
IPC Classification
Priority claims
CL
2901-2018 · 10/11/2018
Abstract
SISTEMA PARA INJETAR CORRENTE ALTERNADA EM CÉLULAS ELETROLÍTICAS, EM GRUPOS CONSECUTIVOS DE ELETRODOS. A invenção refere-se a um sistema para sobrepor corrente alternada, tendo alta intensidade controlada e uma frequência acima de 5 [KHz], em corrente contínua que circula das superfícies do ânodo para as superfícies do cátodo, em células eletrolíticas contendo múltiplos ânodos e cátodos interpostos, para processos de eletroextração ou eletrorrefinação de cobre e outros metais. O sistema fornece a corrente alternada, em grupos consecutivos de eletrodos, cada um sendo formado por um pequeno número de eletrodos consecutivos, de modo que a corrente alternada fornecida circule da superfície do primeiro eletrodo para a superfície do último eletrodo consecutivo de cada grupo, e das superfícies de cada eletrodo à superfície do eletrodo consecutivo, através do eletrólito contido entre os eletrodos de cada grupo, em que os grupos de eletrodos incluem todos os cátodos da célula. Enquanto isso, simultaneamente, a corrente contínua circula em paralelo das superfícies do ânodo para as superfícies do cátodo e através do eletrólito contido entre os eletrodos, e em que o número de eletrodos de cada grupo é um parâmetro determinado de acordo com uma proporção da corrente de fuga de corrente alternada, ou outro parâmetro estatístico da distribuição da intensidade da corrente alternada nos eletrodos, que seja tolerável para o controle do processo.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
02/18/2025
RPI 2824
#6.1
11/05/2024
RPI 2809
#6.23
01/10/2023
RPI 2714
#1.3
07/20/2021
RPI 2637
#1.1
04/20/2021
RPI 2624
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