Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 08/10/2019, observadas as condições legais
07/22/2025
RPI 2846
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Official data from INPI
PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO PARA PREPARAR UM SUBSTRATO DE VIDRO REVESTIDO
ConcedidaInvention PatentPCT · GB2019052845
Application data
Number
112021006501Type
Invention Patent
Filing
10/08/2019
Publication
07/06/2021
PCT
GB2019052845 Progress at the INPI
- Filing10/08/19
- Publication07/06/21
- Examination
- Allowance05/06/25
- Grant07/22/25
- In force10/08/39
The patent was granted on 07/22/2025 and is in force until 10/08/2039. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:10/08/2039
Latest action published by the INPI: 07/22/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
PILKINGTON GROUP LIMITED
GB
Inventors
D. R. (pessoa física)
GB
D. R. (pessoa física)
GB
H. L. (pessoa física)
DE
K. S. (pessoa física)
US
M. G. (pessoa física)
GB
P. S. (pessoa física)
GB
Technical data
IPC Classification
Priority claims
GB
18186381.6 · 10/08/2018
Abstract
PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO PARA PREPARAR UM SUBSTRATO DE VIDRO REVESTIDO, E USO DE ÁGUA E OPCIONALMENTE OXIGÊNIO. Um processo de deposição química de vapor para preparar um substrato de vidro revestido, o dito processo compreendendo pelo menos as seguintes etapas em sequência: a) fornecer um substrato de vidro tendo uma superfície, b) depositar a camada a base de SiCO e/ou SiNO na superfície do substrato de vidro, c) expor a camada a base de SiCO e/ou SiNO a uma mistura gasosa (i) compreendendo água, e d) depositar subsequentemente uma camada a base de um TCO sobre a camada a base de SiCO e/ou SiNO.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Deferimento
#9.1
05/06/2025
RPI 2835
Parecer de pré-exame
#6.23
02/07/2023
RPI 2718
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
07/06/2021
RPI 2635
Alteração de dados cadastrais
#1.1
04/13/2021
RPI 2623
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