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Official data from INPI

REATOR E ANALISADOR AUTOMÁTICO

ConcedidaInvention PatentPCT · JP2019024425

Application data

Number

112021004605

Type

Invention Patent

Filing

06/20/2019

Publication

05/25/2021

PCT

JP2019024425

Progress at the INPI

  1. Filing06/20/19
  2. Publication05/25/21
  3. Examination
  4. Allowance04/24/24
  5. Grant08/06/24
  6. In force06/20/39

The patent was granted on 08/06/2024 and is in force until 06/20/2039. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:06/20/2039

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Latest action published by the INPI: 08/06/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

H. C. (pessoa física)

JP

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Inventors

E. T. (pessoa física)

JP

Y. M. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

JP

2018-181229 · 09/27/2018

Abstract

REATOR PARA ANALISADOR AUTOMÁ-TICO"A presente invenção refere-se a reator que possibilita medir a quantidade de luz de um líquido de reação, sem prejudicar uma função para manter o reator a uma temperatura preestabelecida. Um reator para um analisador automático, de acordo com uma concretização desta invenção, tem uma forma cilíndrica em torno de um primeiro eixo. O comprimento total do reator, na direção do primeiro eixo, é maior do que o comprimento total, na direção de um segundo eixo perpendicular ao primeiro eixo, e o comprimento total, na direção de um terceiro eixo perpendicular ao primeiro eixo e ao segundo eixo. Uma abertura para dispensar líquido é proporcionada em uma parte do reator, em uma extremidade na direção do primeiro eixo. O reator tem uma primeira superfície plana, que possui um lado que se estende na direção do primeiro eixo de uma parte do reator, na outra extremidade na direção do primeiro eixo, e outro lado, que se estende na direção do segundo eixo. Em uma parte do reator, oposta à primeira superfície plana na direção do terceiro eixo, o reator tem uma segunda superfície plana, que é aproximadamente paralela à primeira superfície plana. As partes dos lados das superfícies laterais da primeira e da segunda superfícies planas são formados de modo a se encurvarem na direção do lado de fora do reator. Os comprimentos da primeira e da segunda superfícies planas, na direção do primeiro eixo, são inferiores à metade do comprimento total na direção do primeiro eixo.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 20/06/2019, observadas as condições legais

08/06/2024

RPI 2796

Deferimento

#9.1

04/24/2024

RPI 2781

7.2

04/16/2024

RPI 2780

7.2

Anulada a publicação código 7.3 na RPI nº 2774 de 05/03/2024 por ter sido indevida.

03/26/2024

RPI 2777

Retificação de parecer técnico

#7.3

Republique-se para retificação do exame em relação ao quadro analisado, em função de solicitação de mensagem 1203824, encaminhada através do serviço "Fale conosco"

03/05/2024

RPI 2774

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

12/12/2023

RPI 2762

Parecer de pré-exame

#6.23

06/13/2023

RPI 2736

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

05/25/2021

RPI 2629

Alteração de dados cadastrais

#1.1

03/23/2021

RPI 2620

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