Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
08/08/2023
RPI 2744
Application data
Number
112020021943Type
Filing
Publication
PCT
JP2019017166 The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
JP
Inventors
H. F. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2018-086197 · 04/27/2018
Abstract
DISPOSITIVO DE DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA E MÉTODO DE DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA. São fornecidos um aparelho de deposição de película e um método de deposição de película capazes de controlar com precisão distribuição circunferencial de espessura de uma película formada sobre uma peça de trabalho. O método e aparelho de deposição de película incluem fazer a quantidade total de energia elétrica fornecida a uma primeira fonte de evaporação maior do que a quantidade total de energia elétrica fornecida a uma segunda fonte de evaporação durante o período para formação da película de modo que uma porção formada por partículas emitidas a partir da superfície de emissão da primeira fonte de evaporação seja mais grossa que uma porção formada por partículas emitidas a partir da superfície de emissão da segunda fonte de evaporação na película formada sobre uma superfície de deposição da peça de trabalho.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
08/08/2023
RPI 2744
#6.23
04/25/2023
RPI 2729
#15.35
12/14/2021
RPI 2658
#1.3
01/26/2021
RPI 2612
#1.1
11/10/2020
RPI 2601
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