Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
10/11/2022
RPI 2701
Application data
Number
112020019549Type
Filing
Publication
PCT
US2018040726 The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 10/11/2022. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
N. L. (pessoa física)
US
S. C. (pessoa física)
US
Inventors
N. L. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
62/648,143 · 03/26/2018
Abstract
A presente invenção refere-se a um método e um aparelho associado para limpar um instrumento seguro incluindo um substrato, dados visuais e um elemento de segurança, incluindo a exposição do instrumento seguro a ozônio suficiente para limpar o substrato e não comprometer o elemento de segurança e os dados visuais, onde a limpeza do substrato inclui a remoção de uma ou mais substâncias do substrato no ozônio ou a alteração química de uma ou mais substâncias em ou no substrato de maneira tal que a exposição do instrumento seguro a um fluido supercrítico remove uma ou mais substâncias.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
10/11/2022
RPI 2701
#6.23
05/31/2022
RPI 2682
#15.35
12/14/2021
RPI 2658
#1.3
01/05/2021
RPI 2609
#1.1
10/27/2020
RPI 2599
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