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Official data from INPI

APLICADOR DE PLASMA E UNIDADE DE FONTE DE ALIMENTAÇÃO COM APARELHO DE INSERÇÃO E ARMAZENAMENTO DE ENERGIA

ConcedidaInvention PatentPCT · EP2019057338

Application data

Number

112020018949

Type

Invention Patent

Filing

03/22/2019

Publication

12/29/2020

PCT

EP2019057338

Progress at the INPI

  1. Filing03/22/19
  2. Publication12/29/20
  3. Examination
  4. Allowance06/11/24
  5. Grant08/27/24
  6. In force03/22/39

The patent was granted on 08/27/2024 and is in force until 03/22/2039. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:03/22/2039

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Latest action published by the INPI: 08/27/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

COLDPLASMATECH GMBH

DE

Inventors

A. K. (pessoa física)

DE

C. M. (pessoa física)

DE

M. P. (pessoa física)

DE

R. B. (pessoa física)

DE

T. G. (pessoa física)

DE

Technical data

Priority claims

DE

102018107049.7 · 03/23/2018

DE

102018121978.4 · 09/10/2018

DE

102018122309.9 · 09/12/2018

Abstract

A presente invenção refere-se a um núcleo eletrotécnico para produzir um plasma frio à pressão atmosférica ou à baixa pressão para o tratamento de superfícies de seres humanos e/ou animais e/ou técnicas. O núcleo eletrotécnico tem um lado voltado para a superfície a ser tratada e um lado voltado para a direção oposta à superfície a ser tratada e compreende as seguintes camadas, dispostas umas sobre as outras, começando do lado voltado para a superfície a ser tratada: uma primeira camada isolante; uma primeira estrutura de eletrodo que é conectada a um primeiro meio de contato para estabelecer contato elétrico entre a primeira estrutura de eletrodo e uma unidade de fonte de energia e que é aterrada durante a operação; uma segunda camada isolante, que é projetada para isolar galvanicamente a primeira estrutura de eletrodo e uma segunda estrutura de eletrodo uma da outra; uma segunda estrutura de eletrodo que é conectada a um segundo meio de contato para estabelecer contato elétrico entre a segunda estrutura de eletrodo e uma unidade de fonte de energia e que é acionada, durante a operação, por um sinal de tensão que é fornecido por uma unidade de fonte de energia e que é suficiente para gerar um plasma; uma terceira camada isolante, que é projetada para isolar galvanicamente a segunda estrutura de eletrodo e uma terceira estrutura de eletrodo uma da outra; uma terceira estrutura de eletrodo que é dotada de um terceiro meio de contato para aterrar a terceira estrutura de eletrodo durante a operação.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 22/03/2019, observadas as condições legais

08/27/2024

RPI 2799

Deferimento

#9.1

06/11/2024

RPI 2788

Parecer de pré-exame

#6.23

12/26/2023

RPI 2764

Adição na publicação

#15.35

12/14/2021

RPI 2658

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

12/29/2020

RPI 2608

Alteração de dados cadastrais

#1.1

10/27/2020

RPI 2599

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