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DISPOSITIVO E MÉTODO DE PÓS-TRATAMENTO PARA PÓS-TRATAMENTO DE PELO MENOS GASES A JUSANTE DE UM PROCESSO DE GASEIFICAÇÃO DE LEITO FLUIDIZADO, E UNIDADE LÓGICA E USO

Em AnáliseInvention PatentPCT · EP2018065198

Application data

Number

112019026591

Type

Invention Patent

Filing

06/08/2018

Publication

07/14/2020

PCT

EP2018065198

Progress at the INPI

  1. Filing06/08/18
  2. Publication07/14/20
  3. Examination
  4. Allowance05/09/23
  5. Grant07/18/23
  6. In force06/08/38

The patent was granted on 07/18/2023 and is in force until 06/08/2038. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:06/08/2038

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Latest action published by the INPI: 04/29/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

GIDARA ENERGY B.V.

PB

PLURALITY PARTNERS B.V.

PB

Inventors

D. T. (pessoa física)

DE

D. P. (pessoa física)

DE

H. P. (pessoa física)

DE

R. A. (pessoa física)

DE

Technical data

IPC Classification

Priority claims

DE

102017210044.3 · 06/14/2017

Abstract

A invenção refere-se a um dispositivo de pós-tratamento (10) para o pós-tratamento de pelo menos gases a jusante de uma gaseificação em leito fluidizado, em particular a jusante de um gaseificador HTW (1) de uma gaseificação em leito fluidizado pressurizado, com uma unidade de separação de partículas (2; 11) a jusante do processo de gaseificação em leito fluidizado e a montante de um resfriador de gás (3) utilizável, em que o dispositivo de pós-tratamento compreende uma unidade intermediária de resfriamento (12) a jusante da gaseificação em leito fluidizado e a montante da unidade de separação de partícula (11) com uma linha de retorno (B1) de vapor de gaseificação (B) acoplável à gaseificação de leito fluidizado. Além disso, a invenção refere-se a um método para pós-tratamento de pelo menos gases a jusante de uma gaseificação em leito fluidizado e o uso de uma unidade de resfriamento intermediária.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Alteração de sede deferida

#25.7

04/29/2025

RPI 2834

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 08/06/2018, observadas as condições legais

07/18/2023

RPI 2741

Deferimento

#9.1

05/09/2023

RPI 2731

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

03/07/2023

RPI 2722

Parecer de pré-exame

#6.23

07/19/2022

RPI 2689

Adição na publicação

#15.35

11/03/2021

RPI 2652

Alteração de sede deferida

#25.7

10/13/2021

RPI 2649

Alteração de nome deferida

#25.4

10/05/2021

RPI 2648

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

07/14/2020

RPI 2584

1.5.1

Anulada a publicação código 1.5 na RPI nº 2581 de 23/06/2020 por ter sido indevida.

07/07/2020

RPI 2583

Exigências diversas

#1.5

Vide Parecer

06/23/2020

RPI 2581

Alteração de dados cadastrais

#1.1

12/24/2019

RPI 2555

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