Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
08/02/2022
RPI 2691
Application data
Number
112019025401Type
Filing
Publication
PCT
US2018035577 The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 08/02/2022. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
L. I. (pessoa física)
US
Inventors
H. N. (pessoa física)
US
J. W. (pessoa física)
US
Priority claims
US
62/513,654 · 06/01/2017
Abstract
A presente invenção refere-se a métodos e composições para a eletrodeposição de camadas de metal reativas de metal misto, combinando complexos de metais reativos com agentes de retirada de elétrons. Modificar a proporção de um complexo de metal reativo para outro e variar a densidade da corrente pode ser usado para variar a morfologia da camada de metal no substrato.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
08/02/2022
RPI 2691
#6.23
04/26/2022
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#15.35
11/03/2021
RPI 2652
#1.3
06/23/2020
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#1.1
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