Adição na publicação
#15.35
10/19/2021
RPI 2650
Application data
Number
112019017244Type
Filing
Publication
PCT
US2018019364 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 02/23/2018 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 10/19/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
U. W. (pessoa física)
US
Inventors
B. N. (pessoa física)
US
R. G. (pessoa física)
US
U. S. (pessoa física)
US
Priority claims
US
62/462,779 · 02/23/2017
Abstract
Trata-se de um método exemplificativo que inclui direcionar gás, por meio de uma ou mais primeiras válvulas, de dentro de um eletrodo interno a uma região de aceleração entre o eletrodo interno e um eletrodo externo que circunda substancialmente o eletrodo interno, direcionar gás, por meio de duas ou mais segundas válvulas, de fora do eletrodo externo para a região de aceleração, e aplicar, por meio de uma fonte de alimentação, uma tensão entre o eletrodo interno e o eletrodo externo, convertendo assim pelo menos uma porção do gás direcionado em um plasma que tem um corte transversal substancialmente anular, sendo que o plasma flui axialmente dentro da região de aceleração a uma primeira extremidade do eletrodo interno e uma primeira extremidade do eletrodo externo e, em seguida, estabelece um plasma de Z-pinch que flui entre a primeira extremidade do eletrodo externo e a primeira extremidade do eletrodo interno. Sistemas e métodos de confinamento de plasma relacionados são também revelados no presente documento.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#15.35
10/19/2021
RPI 2650
#11.1.1
08/24/2021
RPI 2642
#11.1
06/08/2021
RPI 2631
#1.3
04/14/2020
RPI 2571
#1.1
08/27/2019
RPI 2538
From the same holder
Same category
Patent monitoring
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.