Adição na publicação
#15.35
09/21/2021
RPI 2646
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Official data from INPI
REDUÇÃO DO TEOR DE MONÔMERO RESIDUAL EM COPOLÍMEROS DE ESTIRENO E VINILPIRIDINA
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US2017048984
Application data
Number
112019002518Type
Invention Patent
Filing
08/29/2017
Publication
05/14/2019
PCT
US2017048984 Progress at the INPI
- Filing08/29/17
- Publication05/14/19
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/21/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
NOVUS INTERNATIONAL, INC.
US
Inventors
G. A. (pessoa física)
US
J. H. (pessoa física)
US
R. E. (pessoa física)
US
X. W. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
62/381,425 · 08/30/2016
US
62/443,544 · 01/06/2017
Abstract
Copolímeros de estireno e vinilpiridina com níveis de monômeros residuais inferiores a cerca de 1000 partes por bilhão e processos para preparar os referidos copolímeros.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2594 de 24-09-2020 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
01/12/2021
RPI 2610
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
09/24/2020
RPI 2594
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
05/14/2019
RPI 2523
Alteração de dados cadastrais
#1.1
03/19/2019
RPI 2515
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