(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

FORNO QUE TEM UM SUBSTRATO DE VIDRO REVESTIDO DE FORMA DIELÉTRICA QUE ABSORVE A RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA E EMITE A RADIAÇÃO TÉRMICA

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US2017045302

Application data

Number

112019002188

Type

Invention Patent

Filing

08/03/2017

Publication

05/21/2019

PCT

US2017045302

Progress at the INPI

  1. Filing08/03/17
  2. Publication05/21/19
  3. Examination
  4. Allowance09/06/22
  5. Grant11/22/22
  6. Terminated06/16/26

The patent was granted on 11/22/2022 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 06/16/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

G. C. (pessoa física)

US

SCHOTT AG

DE

SCHOTT GEMTRON CORP.

US

Inventors

A. O. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

62/370,443 · 08/03/2016

Abstract

A presente revelação se refere a uma cavidade de forno com um substrato de vidro ou vidro-cerâmica revestido de forma dielétrica que absorve a radiação eletromagnética aumentando assim a temperatura do substrato e da composição de revestimento dielétrico e emite a radiação térmica para a cavidade do forno.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 9ª anuidade.

06/16/2026

RPI 2893

Transferência deferida

#25.1

09/05/2023

RPI 2748

Alteração de nome deferida

#25.4

08/22/2023

RPI 2746

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 03/08/2017, observadas as condições legais

11/22/2022

RPI 2707

Deferimento

#9.1

09/06/2022

RPI 2696

Parecer de pré-exame

#6.23

12/07/2021

RPI 2657

Adição na publicação

#15.35

09/21/2021

RPI 2646

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

05/21/2019

RPI 2524

Alteração de dados cadastrais

#1.1

02/12/2019

RPI 2510

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.