Application data
Number
112019000966Type
Filing
Publication
PCT
US2017042676 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/03/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
NEOTHERMA ONCOLOGY, INC.
US
Inventors
C. J. (pessoa física)
US
M. W. (pessoa física)
US
R. J. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
62/363,795 · 07/18/2016
Abstract
SISTEMAS E MÉTODOS PARA A HIPERTERMIA PROFUNDO VISADA POR APLICADORES INDUTIVOS DE RF COMPARTILHADOS NO TEMPO. A presente invenção refere-se, inter alia, a um sistema e métodos para a hipertermia visada eficaz para aquecer diferencialmente órgãos alvo. Em determinadas modalidades, o sistema e/ou o método utiliza um ou mais pares de aplicadores indutivos acoplados a um ou mais geradores de RF e configurados para depositar a radiação de radiofrequência em uma região do interesse com base em um conjunto de parâmetros configuráveis.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2784 de 14-05-2024 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
09/03/2024
RPI 2800
#8.6
Referente à 7ª anuidade.
05/14/2024
RPI 2784
#15.11
As Classificações Anteriores eram: A61B 5/05 , A61B 5/055 , A61B 18/14 , A61B 18/18 , A61N 1/40 , A61N 5/10 , G21K 1/00
03/21/2023
RPI 2724
#6.23
03/21/2023
RPI 2724
#1.3
02/22/2022
RPI 2668
#1.5
Como foram solicitados 2 (tradução dos documentos apresentados no deposito e apresentação de modificações no pedido) serviços através da petição 870190013135 e, de acordo com a Resolução nº189/2017 devem ser pagas retribuições específicas para cada um dos serviços solicitados, se faz necessária a complementação do pagamento.
09/10/2019
RPI 2540
Anulada a publicação código 1.3 na RPI nº 2521 de 30/04/2019 por ter sido indevida.
09/03/2019
RPI 2539
#1.3
04/30/2019
RPI 2521
#1.1
01/29/2019
RPI 2508
From the same holder
Same category
Patent monitoring
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.