Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
05/17/2022
RPI 2680
Application data
Number
112018071704Type
Filing
Publication
PCT
US2017028481 The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
O&M HALYARD INTERNATIONAL UNLIMITED COMPANY
IE
Inventors
A. H. (pessoa física)
US
C. N. (pessoa física)
US
E. S. (pessoa física)
US
J. H. (pessoa física)
US
P. P. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
62/325,729 · 04/21/2016
Abstract
MÁSCARA FACIAL FORMADA A PARTIR DE UMA ESTRUTURA COM MÚLTIPLAS CAMADAS RESISTENTE A ESPIRROSA presente invenção trata de uma máscara facial com múltiplas camadas (100), revestida com padrões descontínuos de material de mudança de fase (300), que estão incorporados na construção da máscara facial (100), para propiciar resfriamento do microclima no espaço morto da máscara facial (100). O resfriamento otimizado é conseguido pelo posicionamento estratégico de camadas revestidas com um material de mudança de fase (300) dentro da construção da máscara (100), e pela quantidade e pela densidade do material de mudança de fase (300) em contato com as áreas sensíveis à temperatura da face, assim como áreas que experimentem a quantidade máxima de fluxo de respiração exalada. O formato da máscara (100) também pode ser ajustado para aumentar o contato da pele com o material de mudança de fase (300) e para diminuir o volume do espaço morto, o que reduz o volume de ar exalado morno e pode fornecer resfriamento suficiente com menos material de mudança de fase (300). Os padrões descontínuos de material de mudança de fase (300) também fornecem espaçamento intercamadas entre as camadas da máscara, o que pode aperfeiçoar a resistência a espirros.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
05/17/2022
RPI 2680
#6.23
01/25/2022
RPI 2664
#15.35
09/08/2021
RPI 2644
#1.3
02/19/2019
RPI 2511
#1.1
10/30/2018
RPI 2495
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