Adição na publicação
#15.35
09/08/2021
RPI 2644
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Official data from INPI
COMPOSIÇÃO DE RESINA FOTOSSENSÍVEL TIPO POSITIVA, PRECURSOR DE PLACA DE IMPRESSÃO PLANOGRÁFICA TIPO POSITIVA E MÉTODO PARA PRODUÇÃO DE PLACAS DE IMPRESSÃO PLANOGRÁFICA
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · JP2017004121
Application data
Number
112018017179Type
Invention Patent
Filing
02/03/2017
Publication
01/02/2019
PCT
JP2017004121 Progress at the INPI
- Filing02/03/17
- Publication01/02/19
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/08/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
F. C. (pessoa física)
JP
Inventors
A. N. (pessoa física)
JP
Y. Y. (pessoa física)
JP
Technical data
IPC Classification
Priority claims
JP
2016-034640 · 02/25/2016
Abstract
Trata-se de uma composição de resina fotossensível tipo positiva incluindo um poliéster contendo um grupo sulfonamida em uma cadeia principal do mesmo, e um absorvente infravermelho; um precursor de placa de impressão planográfica tipo positiva obtido utilizando-se a composição de resina fotossensível tipo positiva; e um método para produzir um a placa de impressão planográfica.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2557 de 07/01/2020.
07/14/2020
RPI 2584
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
01/07/2020
RPI 2557
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
01/02/2019
RPI 2504
Alteração de dados cadastrais
#1.1
09/04/2018
RPI 2487
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