Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
06/30/2020
RPI 2582
Application data
Number
112018013225Type
Filing
Publication
PCT
US2016068883 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 12/28/2016 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Q. I. (pessoa física)
US
Inventors
H. Y. (pessoa física)
US
X. C. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
15/189,325 · 06/22/2016
US
62/272,248 · 12/29/2015
Abstract
A presente invenção refere-se a dispositivos semicondutores com portas de campo mais largas para resistência de porta reduzida. Em um aspecto, proporciona-se um dispositivo semicondutor que emprega uma porta. A porta é uma linha condutora disposta acima do dispositivo semicondutor para formar transistores correspondentes a regiões semicondutoras ativas. Cada região semicondutora ativa tem uma região de canal correspondente. As porções da porta disposta sobre cada região de canal são portas ativas, e porções não dispostas sobre a região de canal, porém que estão dispostas sobre regiões de óxido de campo, são portas de campo. Um diferencial de tensão entre cada porta ativa e uma fonte de cada transístor correspondente faz com que uma corrente flua em uma região de canal correspondente quando o diferencial de tensão exceder uma tensão limite. A largura de cada porta de campo é uma largura maior do que cada porta ativa. A largura maior das portas de campo resulta em resistência de porta reduzida em comparação com dispositivos com portas de campo mais estreitas.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
06/30/2020
RPI 2582
#11.1
02/04/2020
RPI 2561
#1.3
12/04/2018
RPI 2500
#1.1
07/10/2018
RPI 2479
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