Petição de recurso
#12.2
Recurso: 870230049405 - 9/6/2023
06/20/2023
RPI 2737
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Official data from INPI
SISTEMA E MÉTODO PARA EXPOSIÇÃO CONTROLADA DE PLACAS DE IMPRESSÃO FLEXOGRÁFICAS
Em AnáliseInvention PatentPCT · IB2016001660
Application data
Number
112018008024Type
Invention Patent
Filing
10/26/2016
Publication
10/23/2018
PCT
IB2016001660 Progress at the INPI
Under appeal- Filing10/26/16
- Publication10/23/18
- Examination
- Allowance
- Grant
- In force
The application is under appeal: the INPI has yet to review the decision.
Latest action published by the INPI: 06/20/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
ESKO-GRAPHICS IMAGING GMBH
DE
Inventors
J. W. (pessoa física)
DE
T. H. (pessoa física)
DE
W. S. (pessoa física)
DE
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
62/246,276 · 10/26/2015
Abstract
A presente invenção refere-se a um método e a um aparelho para expor placas de impressão fotossensível com uma densidade de radiação predeterminada a partir do lado principal (topo) e uma densidade de radiação predeterminada a partir do lado posterior (fundo). O método compreende executar a exposição principal com um atraso de tempo após a exposição posterior. O atraso de tempo entre a exposição posterior e a exposição principal é otimizado para criar elementos estáveis de ponto único, menores na placa de impressão fotossensível após o processamento e tamanhos de ponto de elemento único menores impressos no substrato de impressão.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Indeferimento
#9.2
04/11/2023
RPI 2727
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
11/08/2022
RPI 2705
Exigência preliminar
#6.21
05/26/2020
RPI 2577
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
10/23/2018
RPI 2494
Alteração de dados cadastrais
#1.1
05/02/2018
RPI 2469
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