Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 19/10/2016, observadas as condições legais
03/30/2021
RPI 2621
Application data
Number
112018007350Type
Filing
Publication
PCT
US2016057753 The patent was granted on 03/30/2021 and is in force until 10/19/2036. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:10/19/2036
Latest action published by the INPI: 03/30/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
NANOGUARD TECHNOLOGIES, LLC
US
Inventors
K. K. (pessoa física)
US
M. H. (pessoa física)
US
Priority claims
US
14/921,910 · 10/23/2015
Abstract
A presente invenção refere-se a um método de tratamento de um produto (214, 314) ou superfície com um gás reativo (210, 408) que compreende produzir o gás reativo (210, 408) formando um plasma frio de alta tensão (HVCP) a partir de um gás de trabalho; transportar o gás reativo (210, 408) pelo menos 5 cm para longe do HVCP; seguido pelo contato do produto (214, 314) ou superfície com o gás reativo (210, 408). O HVCP não contata o produto (214, 314) ou superfície.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 19/10/2016, observadas as condições legais
03/30/2021
RPI 2621
#9.1
02/17/2021
RPI 2615
Recorrente: O depositante. @ Despacho: Recurso conhecido e provido. Reformada a decisão recorrida. [104]
01/26/2021
RPI 2612
01/21/2020
RPI 2559
#6.21
11/05/2019
RPI 2548
08/27/2019
RPI 2538
Negado o trâmite prioritário requerido através da petição nº 870190050779, de 30/05/2019, haja vista que a matéria não se enquadra em nenhum item do Anexo 1 e, consequentemente, não atende ao disposto no art. 10 da Resolução INPI PR nº 239, de 04 de junho de 2019, publicada na RPI 2528 de 18 de junho 2019
08/27/2019
RPI 2538
08/20/2019
RPI 2537
#1.3
10/23/2018
RPI 2494
#1.1
04/24/2018
RPI 2468
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