APARELHO DE GERAÇÃO DE PLASMA E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DE DISPOSITIVOS PADRONIZADOS UTILIZANDO PROCESSAMENTO DE PLASMA RESOLVIDO ESPACIALMENTE

IPC Classification

Priority claims

Abstract

A presente invenção refere-se a um aparelho de geração de plasma, para a fabricação de dispositivos com camadas padronizadas, compreendendo um primeiro conjunto de eletrodo (1) e um segundo conjunto de eletrodo (2) colocados em uma câmara de reator de plasma, uma fonte de energia elétrica (6) para gerar uma diferença de tensão entre o primeiro conjunto de eletrodo (1) e o segundo conjunto de eletrodo (2). De acordo com a invenção, o primeiro conjunto de eletrodo (1) compreende uma pluralidade de protrusões (11) e uma pluralidade de recessos (12, 13, 14, 15, 16, 17, 18), as protrusões (11) e os recessos (12 , 13, 14, 15, 16, 17, 18) sendo dimensionados e definidos a distâncias respectivas (D1, D2) a partir da superfície (51) do substrato (5) de modo a gerar uma pluralidade de zonas de plasma isoladas espacialmente (21 , 22) localizadas seletivamente entre o referido segundo conjunto de eletrodo (2) e a referida pluralidade de recessos (12, 13, 14, 15, 16, 17, 18) ou entre o referido segundo conjunto de eletrodo (2) e a referida pluralidade de protrusões (11).