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Official data from INPI

PASTILHA DE CIRCUITO INTEGRADO E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DA MESMA

ArquivadaInvention PatentPCT · CN2016080514

Application data

Number

112017023286

Type

Invention Patent

Filing

04/28/2016

Publication

09/04/2018

PCT

CN2016080514

Progress at the INPI

  1. Filing04/28/16
  2. Publication09/04/18
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 09/15/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

HUAWEI TECHNOLOGIES CO., LTD.

CN

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Inventors

F. L. (pessoa física)

CN

H. F. (pessoa física)

CN

S. C. (pessoa física)

CN

Technical data

Priority claims

CN

201510221081.2 · 04/30/2015

Abstract

PASTILHA DE CIRCUITO INTEGRADO E MÃTODO DE FABRICAÃÃO DA MESMA.Modalidades da presente invenção fornecem uma pastilha de IC e um método de preparação da mesma a fim de resolver um problema em que um método de dissipação de calor usado atualmente de um chip de IC tem um efeito limitado em umaspecto de redução de uma temperatura de um ponto de calor em uma superfície do chip de IC. A pastilha de IC inclui uma subcamada (110, 211); um componente ativo (111, 212); uma camada de interconexão (112, 213) que cobre o componenteativo (111, 212), em que a camada de interconexão (112, 213) inclui múltiplas camadas de metal e múltiplas camadas dielétricas, as múltiplas camadas de metal e as múltiplas camadas dielétricas estão dispostas alternativamente, uma camada de metal cuja distância para o componente ativo é a maior nas múltiplas camadas de metal que inclui cabeamento de metal e uma área de soldagem de metal; e uma camada de dissipação de calor (109, 207), em que a camada de dissipação de calor (109, 207) cobre uma região acima da camada de interconexão, salvo uma posição que corresponde à área de soldagem de metal, a camada de dissipação de calor está localizada sobre uma camada de pacote, a camada de pacote inclui um material de empacotamento plástico e a camada de dissipação de calor inclui um material de isolamento elétrico cuja condutividade de calor é maior que um valor predefinido.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

09/15/2020

RPI 2593

Exigência preliminar

#6.21

05/19/2020

RPI 2576

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

05/14/2019

RPI 2523

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

09/04/2018

RPI 2487

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/14/2018

RPI 2484

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