Adição na publicação
#15.35
08/17/2021
RPI 2641
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Official data from INPI
DISPOSITIVO OPTOELETRÔNICO E MÉTODO DE PRODUÇÃO DO MESMO
ArquivadaInvention PatentPCT · US2016021178
Application data
Number
112017019432Type
Invention Patent
Filing
03/07/2016
Publication
04/24/2018
PCT
US2016021178 Progress at the INPI
- Filing03/07/16
- Publication04/24/18
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/07/2016 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 08/17/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
VITRO, S.A.B. DE C.V.
MX
Inventors
B. K. (pessoa física)
US
C. H. (pessoa física)
US
G. N. (pessoa física)
US
J. M. (pessoa física)
US
K. K. (pessoa física)
US
Z. M. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
14/963,736 · 12/09/2015
US
14/963,778 · 12/09/2015
US
14/963,799 · 12/09/2015
US
14/963,832 · 12/09/2015
US
62/131,938 · 03/12/2015
Abstract
DISPOSITIVO OPTOELETRÔNICO E MÉTODO DE PRODUÇÃO DO MESMO. Trata-se de um dispositivo optoeletrônico (10) que inclui um primeiro substrato (12) que tem uma primeira superfície (14) e uma segunda superfície (16); uma subcamada (18) situada sobre a segunda superfície (16); uma primeira camada condutora (20) sobre a subcamada (18); uma sobrecamada (22) sobre a primeira camada condutora (20); uma camada semicondutora (24) sobre a primeira camada condutora (20); e uma segunda camada condutora (26) sobre a camada semicondutora (24). A primeira camada condutora (20) inclui um óxido condutor e pelo menos um dopante selecionado a partir do grupo que consiste em tungstênio, molibdênio, nióbio e flúor; e/ou a sobrecamada (22) inclui uma camada de tampão (42) que inclui óxido de estanho e pelo menos um material selecionado a partir do grupo que consiste em zinco, índio, gálio e magnésio.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
06/11/2019
RPI 2527
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
03/26/2019
RPI 2516
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
04/24/2018
RPI 2468
Alteração de dados cadastrais
#1.1
09/19/2017
RPI 2437
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