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Recorrente: O depositante.@ Despacho: Cumpra as exigências do parecer no prazo de 60 (sessenta) dias. [121]
06/30/2026
RPI 2895
Application data
Number
112017011770Type
Filing
Publication
PCT
US2014068919 The INPI issued a technical office action on this application. If it is not answered in time, the application is abandoned (art. 36 of the Brazilian IP Act).
Deadline to answer the office action:09/28/2026(34 days left)
Latest action published by the INPI: 06/30/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
AGC FLAT GLASS NORTH AMERICA, INC.
US
AGC GLASS EUROPE, S.A.
BE
AGC INC.
JP
ASAHI GLASS COMPANY LTD.
JP
Inventors
H. J. (pessoa física)
US
J. C. (pessoa física)
US
P. M. (pessoa física)
US
Y. L. (pessoa física)
US
IPC Classification
Abstract
A presente invenção refere-se em geral a uma fonte de plasma que utiliza um revestimento de redução de macro partícula e método de usar a fonte de plasma que utiliza a redução de macro partícula para a deposição de revestimentos de filme fino e modificação de superfícies. Mais particularmente, a presente invenção refere-se a uma fonte de plasma que compreende um ou mais eletrodos de geração de plasma, em que um revestimento de redução de macro partícula é depositado em pelo menos uma porção das superfícies de geração de plasma dos um ou mais eletrodos para proteger as superfícies de geração de plasma dos eletrodos a partir de erosão pelo plasma produzido e para resistir à formação de matéria particulada, assim aumentando o desempenho e estendendo a vida útil da fonte de plasma.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Recorrente: O depositante.@ Despacho: Cumpra as exigências do parecer no prazo de 60 (sessenta) dias. [121]
06/30/2026
RPI 2895
#12.2
Recurso: 870220101556 - 3/11/2022
11/16/2022
RPI 2706
#9.2
09/06/2022
RPI 2696
#7.1
05/17/2022
RPI 2680
#6.21
06/16/2020
RPI 2580
#25.4
03/19/2019
RPI 2515
#1.3
12/26/2017
RPI 2451
#1.1
08/29/2017
RPI 2434
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