COMPOSIÇÃO COM BASE EM POLI(ARILENO ÉTER CETONA), PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DA REFERIDA COMPOSIÇÃO, USO DA MESMA E OBJETO FABRICADO A PARTIR DESTA

IPC Classification

Priority claims

Abstract

A presente invenção refere-se a uma composição com base em poli(éter éter cetona) (PEEK) incluindo poli(éter cetona cetona) (PEKK), caracterizada pelo fato de que o poli(éter cetona cetona) (PEKK) inclui uma mistura de unidades tereftálicas e isoftálicas, em porcentagem em peso de unidades tereftálicas, com respeito à soma das unidades tereftálicas e isoftálicas, estando entre 55 e 85%, limites incluídos, e preferivelmente entre 55 e 70%, a referida composição compreende entre 1 e 40%, limites incluídos, preferivelmente entre 5 e 40% e mais preferivelmente ainda entre 10 e 30% em peso de PEKK, com respeito ao peso total da composição.