PROCESSO DE OBTENÇÃO DE UM SUBSTRATO REVESTIDO COM UMA CAMADA FUNCIONAL COM O AUXÍLIO DE UMA CAMADA SACRIFICIAL

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Abstract

PROCESSO DE OBTENÇÃO DE UM SUBSTRATO REVESTIDO COM UMA CAMADA FUNCIONAL COM O AUXÍLIO DE UMA CAMADA SACRIFICIAL.A invenção tem por objeto um processo de obtenção de um material compreendendo um substrato revestido sobre pelo menos uma parte de pelo menos uma de suas faces com pelo menos uma camada funcional, o referido processo compreendendo: - uma etapa de depósito da ou de cada camada funcional, em seguida - uma etapa de depósito de uma camada sacrificial sobre a referida pelo menos uma camada funcional, em seguida - uma etapa de tratamento térmico por meio de uma radiação escolhida entre uma radiação laser ou uma radiação proveniente de pelo menos uma lâmpada flash, a referida radiação tendo pelo menos um comprimento de onda de tratamento compreendido entre 200 e 2500nm, referida camada sacrificial estando em contato com o ar durante esta etapa de tratamento térmico, em seguida - uma etapa de eliminação da camada sacrificial com o auxílio de um solvente, a referida camada sacrificial sendo uma monocamada e sendo tal que, antes do tratamento térmico, ela absorve pelo menos uma parte da referida radiação no referido pelo menos um comprimento de onda de tratamento e que, após tratamento térmico, ela é susceptível de ser eliminada por dissolução e/ou dispersão no referido solvente.