Adição na publicação
#15.35
08/03/2021
RPI 2639
Application data
Number
112016025222Type
Filing
Publication
PCT
US2015027923 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
SCOTT TECHNOLOGIES, INC.
US
Inventors
A. S. (pessoa física)
US
C. W. (pessoa física)
GB
E. V. (pessoa física)
US
G. W. (pessoa física)
GB
M. P. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
61/985,291 · 04/28/2014
Abstract
MÁSCARA RESPIRATÓRIA.A invenção refere-se a uma máscara respiratória (100) que apresenta um elemento de filtro que é otimamente posicionado com relação à inspiração e à expiração do nariz e da boca de um usuário em relação ao tamanho e à forma do filtro, permitindo assim um caminho direto do fluxo de ar entre o nariz e a boca do usuário para o filtro (20). Uma seção não permeável, incorporada no elemento de filtro, uma estrutura de filtragem (12), a área de vedação ou uma combinação das mesmas é usada para direcionar e canalizar os limites dispersos externos do fluxo nasal e oral para o elemento de filtro. O filtro (20) otimamente posicionado acoplado a canalização do fluxo limite através do elemento de filtro reduz o tempo de residência do ar expirado na máscara.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#15.35
08/03/2021
RPI 2639
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2564 de 2020-02-27
08/25/2020
RPI 2590
#8.6
Referente à 5ª anuidade.
02/27/2020
RPI 2564
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
08/15/2017
RPI 2432
#1.1
11/08/2016
RPI 2392
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