Adição na publicação
#15.35
08/03/2021
RPI 2639
Application data
Number
112016023575Type
Filing
Publication
PCT
EP2014059306 The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
ALCON, INC.
CH
WAVELIGHT GMBH
DE
Inventors
C. D. (pessoa física)
DE
K. V. (pessoa física)
DE
IPC Classification
Abstract
APARELHO PARA PROCESSAMENTO A LASER DE UM MATERIAL.Modalidades da invenção proporcionam um método e aparelho para processamento a laser de um material. No método e aparelho, um feixe limitado por difração de radiação laser pulsada é difratado por um dispositivo de difração para gerar um feixe difratado de radiação laser pulsada. O feixe difratado é subsequentemente focado sobre o material e é controlado no tempo e espaço para irradiar o material em uma posição de destino com radiação a partir de um conjunto de impulsos de radiação do feixe difratado de modo que cada impulso de radiação a partir do conjunto de impulsos de radiação seja incidente na posição de destino, com uma porção transversal do feixe difratado, a porção transversal, incluindo um máximo de intensidade local do feixe difratado. As porções transversais do feixe de, pelo menos, um subconjunto dos impulsos do conjunto incluem, cada uma, um máximo de intensidade local diferente. Desse modo, uma aplicação de múltiplos impulsos para a geração de uma fotodisrupção em uma localização de destino do material pode ser implementada.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#15.35
08/03/2021
RPI 2639
#11.2
09/15/2020
RPI 2593
#6.21
03/31/2020
RPI 2569
#25.1
02/11/2020
RPI 2562
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
08/15/2017
RPI 2432
#1.1
11/01/2016
RPI 2391
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